Capacidad de suministro e información a...
Paquete: caja de madera
transporte: Ocean
Lugar de origen: Porcelana
Certificados : iso9001
HS-Code: 8514200090
Hafen: Dalian
Tipo de Pago: T/T
Incoterm: FOB,CFR,CIF,EXW
El horno de deposición de vapor químico consiste en una cámara de deposición, un sistema de suministro de gas y un sistema de escape. Es un equipo de producción que utiliza calentamiento de resistencia o calentamiento de inducción para pasar gas de deposición en un entorno de vacío, y luego lo piroliza a alta temperatura y lo deposita en la pieza de trabajo para hacer que el material compuesto sea denso.
Áreas de aplicación: productos de carbono-carbono, grafito pirolítico, recubrimientos de materiales resistentes al calor, síntesis de polvo
Características funcionales: operación simple, fácil mantenimiento, puede preparar varios tipos de recubrimientos y materiales compuestos, productos densos y uniformes, alta pureza y gran tamaño
El horno de deposición de vapor químico (CVD) de vacío es un sistema de procesamiento avanzado de alta temperatura diseñado para una deposición precisa de película delgada en sustratos en condiciones de vacío. Utilizando la tecnología de deposición de vapor químico en una atmósfera controlada, este horno permite la formación de recubrimientos uniformes de alta pureza con excelente adhesión, suavidad de la superficie y propiedades del material.
Diseñado para industrias como semiconductores, aeroespaciales, ópticos y materiales avanzados, el horno de CVD de vacío admite una amplia gama de materiales de recubrimiento, incluidos carburos, nitruros, óxidos y metales refractarios. Su control de temperatura optimizado, el manejo del flujo de gas y la integridad del vacío aseguran resultados repetibles y un rendimiento de recubrimiento superior tanto para la investigación como para la producción industrial.
Beneficios
· Calidad de la película superior: alta resistencia a la adhesión y acabado de superficie uniforme.
· Versatilidad del material: funciona con metales, cerámica y sustratos compuestos.
· Repetibilidad del proceso: resultados consistentes en múltiples ejecuciones de producción.
· Eficiencia energética: los sistemas optimizados de calefacción y vacío reducen los costos operativos.
El horno de deposición de vapor químico de vacío es la opción perfecta para fabricantes e instituciones de investigación que buscan precisión, consistencia y escalabilidad en aplicaciones de recubrimiento de película delgada.