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Horno de deposición de vapor químico de vacío
Horno de deposición de vapor químico de vacío
Horno de deposición de vapor químico de vacío

Horno de deposición de vapor químico de vacío

Tipo de Pago:T/T

Incoterm:FOB,CFR,CIF,EXW

Cantidad de pedido mínima:1 Set/Sets

transporte:Ocean

Hafen:Dalian

Descripción
Atributos del producto

ModeloGCVD-0510

MarcaGtvac

Capacidad de suministro e información a...

Paquetecaja de madera

transporteOcean

Lugar de origenPorcelana

Certificados iso9001

HS-Code8514200090

HafenDalian

Tipo de PagoT/T

IncotermFOB,CFR,CIF,EXW

Embalaje y entrega
Unidades de venta:
Set/Sets
Tipo de paquete:
caja de madera
Ejemplo de una imagen:
El horno de deposición de vapor químico consiste en una cámara de deposición, un sistema de suministro de gas y un sistema de escape. Es un equipo de producción que utiliza calentamiento de resistencia o calentamiento de inducción para pasar gas de deposición en un entorno de vacío, y luego lo piroliza a alta temperatura y lo deposita en la pieza de trabajo para hacer que el material compuesto sea denso.
Áreas de aplicación: productos de carbono-carbono, grafito pirolítico, recubrimientos de materiales resistentes al calor, síntesis de polvo
Características funcionales: operación simple, fácil mantenimiento, puede preparar varios tipos de recubrimientos y materiales compuestos, productos densos y uniformes, alta pureza y gran tamaño
El horno de deposición de vapor químico (CVD) de vacío es un sistema de procesamiento avanzado de alta temperatura diseñado para una deposición precisa de película delgada en sustratos en condiciones de vacío. Utilizando la tecnología de deposición de vapor químico en una atmósfera controlada, este horno permite la formación de recubrimientos uniformes de alta pureza con excelente adhesión, suavidad de la superficie y propiedades del material.
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Chemical Vapor Deposition Furnace
Diseñado para industrias como semiconductores, aeroespaciales, ópticos y materiales avanzados, el horno de CVD de vacío admite una amplia gama de materiales de recubrimiento, incluidos carburos, nitruros, óxidos y metales refractarios. Su control de temperatura optimizado, el manejo del flujo de gas y la integridad del vacío aseguran resultados repetibles y un rendimiento de recubrimiento superior tanto para la investigación como para la producción industrial.
Beneficios
· Calidad de la película superior: alta resistencia a la adhesión y acabado de superficie uniforme.
· Versatilidad del material: funciona con metales, cerámica y sustratos compuestos.
· Repetibilidad del proceso: resultados consistentes en múltiples ejecuciones de producción.
· Eficiencia energética: los sistemas optimizados de calefacción y vacío reducen los costos operativos.
El horno de deposición de vapor químico de vacío es la opción perfecta para fabricantes e instituciones de investigación que buscan precisión, consistencia y escalabilidad en aplicaciones de recubrimiento de película delgada.
Productos
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