Atributos del producto

Modelo: IVD

Marca: Gtvac

Capacidad de suministro e información a...

Paquete: caja de madera

transporte: Ocean

Lugar de origen: Porcelana

Certificados : iso9001

HS-Code: 8514200090

Hafen: Dalian

Tipo de Pago: T/T

Incoterm: FOB,CFR,CIF,EXW

Embalaje y entrega

Unidades de venta:

Set/Sets

Tipo de paquete:

caja de madera

Ejemplo de una imagen:

Introducción

El horno de deposición de vapor de iones de vacío (IVD) es un sistema de vanguardia diseñado para ofrecer recubrimientos de película delgada superiores a través de procesos de deposición asistidos por iones en condiciones ultra altas de vacío. Al combinar técnicas de vaporización con bombardeo iónico, este horno asegura recubrimientos con una mayor resistencia a la adhesión, densidad y uniformidad superficial.

Ampliamente utilizado en aeroespacial, defensa, semiconductores, dispositivos médicos y herramientas de precisión, el horno de deposición de vapor de iones de vacío ofrece recubrimientos consistentes de alta calidad que satisfacen las rigurosas demandas de las industrias modernas.

Características clave

1. Tecnología avanzada de deposición asistida por iones

Integra la deposición física del vapor (PVD) con el bombardeo de iones para las características de recubrimiento mejoradas.

La energía iónica se puede controlar con precisión para modificar la microestructura y la adhesión de la película.

Facilita la producción de recubrimientos altamente densos, lisos y uniformes.

✔ Beneficio: películas con dureza superior, resistencia al desgaste y resistencia a la corrosión.

2. Sistema de vacío ultra alto

Los niveles de vacío pueden alcanzar ≤ 1 × 10 ⁻⁴ PA para entornos de deposición ultrapura.

Equipado con bombas turbo-moleculares de última generación y bombas de respaldo seco.

Ambiente estable y sin contaminación crítico para la deposición de películas delgadas de alta pureza.

✔ Asegura los recubrimientos libres de agujeros e impurezas, críticas para aplicaciones aeroespaciales y semiconductores.

3. Temperatura precisa y control de plasma

Calentamiento de sustrato de hasta 1000 ° C con un manejo uniforme de temperatura de la zona múltiple.

Los parámetros de plasma, como la energía iónica, la corriente y la densidad, se controlan estrechamente para el rendimiento de recubrimiento optimizado.

Monitoreo y ajuste en tiempo real a través de un sistema de pantalla táctil PLC + HMI.

✔ Resultado: recubrimientos personalizables adaptados a requisitos funcionales específicos.

4. Capacidad de deposición multimaterial y multicapa

Admite la deposición de metales (Ti, Cr, Al, Cu, Au), nitruros (estaño, CRN), carburos, óxidos y materiales compuestos.

Permite la deposición secuencial o conjunta de diferentes materiales para formar recubrimientos multicapa o gradiente.

Configuraciones de fuente flexibles que incluyen fuentes de evaporación, objetivos de pulverización de magnetrón y fuentes de plasma.

✔ Beneficio: rango de aplicación ampliado y propiedades de superficie altamente diseñadas.

5. Cámara personalizable y diseño modular

Los tamaños de cámara y los accesorios internos se pueden personalizar de acuerdo con las necesidades de producción del sustrato y de producción por lotes.

El diseño modular permite rutas de actualización fáciles para técnicas de deposición adicionales o mayor capacidad.

✔ Inversión a prueba de futuro para adaptarse a los requisitos de producción en evolución.

Aplicaciones

El horno de deposición de vapor de iones de vacío se usa ampliamente en:

Componentes aeroespaciales: recubrimientos resistentes a la corrosión y resistentes al desgaste para cambios de aterrizaje, turbinas y sujetadores.

Semiconductores: barrera ultra delgada y capas conductoras para circuitos integrados y dispositivos MEMS.

Dispositivos médicos: recubrimientos biocompatibles para implantes y herramientas quirúrgicas.

Industria de defensa: recubrimientos anti-ropa y anticorrosión para hardware de defensa crítica.

Herramientas de precisión: recubrimientos duros para cortar, formar y herramientas de moldeo por inyección.

Ventajas del horno de deposición de vapor de iones de vacío

Densidad de película mejorada y adhesión superior a través de la asistencia iónica.

Alta uniformidad a través de superficies 3D complejas y geometrías internas.

Opciones de procesamiento de baja temperatura para acomodar sustratos confidenciales.

Una amplia gama de compatibilidad con material, incluidos metales, cerámica y compuestos.

Producción escalable: adecuado para laboratorios de I + D y fabricación industrial a gran escala.

Sistema de control inteligente

Ciclo de deposición totalmente automatizado a través de la interfaz intuitiva PLC + HMI.

Monitoreo en tiempo real del nivel de vacío, parámetros del haz de iones, temperatura del sustrato y tasa de deposición.

El registro de datos y el diagnóstico remoto admiten mantenimiento predictivo y optimización de procesos.

Almacenamiento de recetas para cambios rápidos entre diferentes requisitos de recubrimiento.

✔ Diseñado para entornos inteligentes de fabricación e industria 4.0.

¿Por qué elegir nuestro horno de deposición de vapor de iones de vacío?

Décadas de experiencia en horno de vacío y tecnología de recubrimiento.

Ingeniería personalizada basada en necesidades de aplicación específicas del cliente.

Servicios de soporte global que incluyen instalación, capacitación y mantenimiento técnico.

Confiabilidad probada en el campo con instalaciones exitosas en sectores aeroespaciales, electrónicos y médicos.

Innovación continua para enfrentar desafíos futuros del mercado.

Preguntas frecuentes (preguntas frecuentes)

P: ¿Cuál es la ventaja de la deposición de vapor de iones en comparación con el PVD tradicional?

R: La deposición de vapor de iones produce recubrimientos más densos y más duros con una adhesión más fuerte y un mejor acabado superficial en comparación con los procesos de PVD convencionales.

P: ¿Puede el horno manejar piezas grandes o de forma irregular?

R: Sí, los diseños personalizados de cámara y accesorios pueden acomodar una amplia gama de tamaños de sustrato y formas complejas.

P: ¿Qué tipos de materiales se pueden depositar utilizando el horno IVD?

R: Se puede depositar una variedad de metales, cerámicas y compuestos, incluidos nitruros duros, carburos y óxidos funcionales.

P: ¿Cuánto tiempo lleva el proceso de recubrimiento?

R: Los tiempos del ciclo de deposición varían según los requisitos de material y de espesor, que generalmente varían de 1 a 6 horas.