Horno de deposición de vapor físico al vacío

Tipo de Pago:T/T

Incoterm:FOB,CFR,CIF,EXW

Cantidad de pedido mínima:1 Set/Sets

transporte:Ocean

Hafen:Dalian

Atributos del producto
Capacidad de suministro e información a...
Embalaje y entrega

Atributos del producto

Marca: Gtvac

Capacidad de suministro e información a...

Paquete: caja de madera

transporte: Ocean

Lugar de origen: Porcelana

Certificados : iso9001

HS-Code: 8514200090

Hafen: Dalian

Tipo de Pago: T/T

Incoterm: FOB,CFR,CIF,EXW

Embalaje y entrega

Unidades de venta:

Set/Sets

Tipo de paquete:

caja de madera

Ejemplo de una imagen:

Introducción

El horno de deposición de vapor físico (PVD) de vacío es un equipo de alto rendimiento diseñado específicamente para depositar películas y recubrimientos delgados en una amplia variedad de materiales. Utilizando tecnología de vacío avanzada combinada con procesos de deposición de vapor físico como evaporación, pulverización y deposición de arco, este horno garantiza una adhesión de película superior, uniformidad y pureza.

Ideal para industrias como la fabricación de semiconductores, el recubrimiento de herramientas y troqueles, recubrimientos ópticos, piezas automotrices y componentes aeroespaciales, el horno de PVD de vacío ofrece una solución rentable y de alta calidad para las demandas modernas de ingeniería de superficies.

Características clave

1. Sistema de vacío avanzado

Logra altos niveles de vacío hasta 1 × 10⁻⁴ PA, asegurando una contaminación mínima y una mayor pureza de la película.

Equipado con bombas de vacío de alta eficiencia, como bombas turbo-moleculares, bombas de difusión y bombas secas.

Ambiente de vacío estable crítico para lograr recubrimientos de alta calidad sin defectos.

✔ Beneficio: adhesión de recubrimiento superior y espesor de película constante.

2. Técnicas de deposición versátiles

Admite múltiples métodos de PVD, que incluyen:

Evaporación térmica

Evaporación del haz de electrones (viga electrónica)

Magnetron pulverización (DC y RF)

Evaporación de arco

Las capacidades de proceso flexibles permiten la deposición de metales, cerámica, aleaciones y materiales compuestos.

✔ Ideal para aplicaciones que van desde recubrimientos decorativos ultra delgados hasta recubrimientos funcionales duros resistentes al desgaste.

3. Control preciso de temperatura y proceso

Los sistemas integrados de calefacción múltiple proporcionan calentamiento de sustrato uniforme de hasta 1000 ° C.

El control de temperatura preciso garantiza condiciones de deposición óptimas para varios materiales.

Monitoreo en tiempo real de niveles de vacío, caudales de gas y tasas de deposición a través de sistemas de control PLC + HMI.

✔ Resultado: lote de rendimiento de recubrimiento confiable y reproducible después del lote.

4. Uniformidad de alta deposición

Los diseños de la cámara con dinámica de flujo de gas optimizada y configuraciones de objetivos avanzados aseguran un grosor de película uniforme en todas las superficies de sustrato.

Adecuado para recubrir geometrías complejas, incluidas las componentes cilíndricos, planos y contorneados.

✔ Asegura un excelente acabado superficial y propiedades mecánicas consistentes.

5. Diseño de cámara personalizable

Tamaños de cámara estándar y personalizados disponibles para adaptarse a diferentes volúmenes de producción.

Opciones para el procesamiento por lotes, sistemas continuos en línea y recubrimiento de PVD de rollo a rollo para sustratos flexibles.

Las rutas de actualización modulares permiten a los usuarios agregar fácilmente nuevas fuentes o tecnologías a medida que evolucionan las necesidades.

Aplicaciones

El horno de PVD de vacío se usa ampliamente en muchas industrias:

Industria de semiconductores: deposición de capas de barrera, capas de metalización y recubrimientos funcionales.

Recubrimientos de herramientas: recubrimientos duros como Tin, Tialn y CRN para mejorar la vida y el rendimiento de la herramienta de corte.

Recubrimientos ópticos: recubrimientos antirreflectantes, revestimientos de espejo y películas decorativas.

Dispositivos médicos: recubrimientos biocompatibles para implantes e instrumentos quirúrgicos.

Componentes automotrices: recubrimientos estéticos y resistentes al desgaste para piezas del motor y adornos interiores/exteriores.

Ventajas del horno de deposición de vapor físico de vacío

Recubrimientos de alta pureza con excelente resistencia de adhesión.

Compatibilidad de material amplio, metales de soporte, cerámica y compuestos.

Producción escalable desde pequeños lotes de I + D hasta producción industrial masiva.

Mayor costo operativo en comparación con los métodos de deposición de vapor químico (CVD).

Proceso respetuoso con el medio ambiente con una producción mínima de residuos.

Control y monitoreo inteligente

Los sistemas PLC totalmente automatizados controlan todo el ciclo de deposición.

Las capacidades de monitoreo y ajuste de parámetros en tiempo real aseguran la optimización del proceso.

El acceso y los diagnósticos remotos permiten una resolución rápida y un tiempo de inactividad mínimo.

El registro de datos y la gestión de recetas permiten la calidad consistente de producción por lotes a lotes.

✔ Manufactura inteligente lista para la integración de la industria 4.0.

¿Por qué elegir nuestro horno de PVD de vacío?

Más de 20 años de experiencia en tecnología de vacío en diseño y fabricación de hornos.

Soluciones personalizadas para cumplir con los requisitos específicos de la industria y la aplicación.

Instalación global, capacitación y soporte técnico.

Alta confiabilidad y larga vida útil respaldada por garantías integrales y acuerdos de servicio.

Rendimiento probado en el campo a través de Fabs de semiconductores, fabricantes de herramientas, OEM automotrices e instituciones de investigación.