Equipo de recubrimiento de aspiradora de magnetrón

Tipo de Pago:T/T

Incoterm:FOB,CFR,CIF,EXW

Cantidad de pedido mínima:1 Set/Sets

transporte:Ocean

Hafen:Dalian

Atributos del producto
Capacidad de suministro e información a...
Embalaje y entrega

Atributos del producto

Modelo: GD-X200-8

Marca: Gtvac

Capacidad de suministro e información a...

Paquete: caja de madera

transporte: Ocean

Lugar de origen: Porcelana

Certificados : iso9001

HS-Code: 8514200090

Hafen: Dalian

Tipo de Pago: T/T

Incoterm: FOB,CFR,CIF,EXW

Embalaje y entrega

Unidades de venta:

Set/Sets

Tipo de paquete:

caja de madera

Ejemplo de una imagen:

Basado en el principio de PVD (deposición física de vapor), la tecnología de pulverización de magnetrón de vacío se utiliza para depositar uno o más materiales a escala de nanoes en el sustrato. El grosor de la película puede controlarse finamente, y la capa de película es uniforme y consistente, dando al sustrato nuevas funciones. El proceso de producción es verde y ecológico, y es ampliamente utilizado en la fabricación de películas ópticas, películas de baja E, películas de elementos de batería, películas fotovoltaicas, películas de ITO y tecnología de penetración de material magnético permanente. Los tipos de equipos se dividen en dos categorías: máquinas de una sola unidad y líneas continuas. La línea continua adopta una estructura modular y puede organizarse de manera flexible de acuerdo con los diferentes requisitos del proceso. El cátodo se puede equipar con un objetivo giratorio o un objetivo plano; El recubrimiento reactivo también se puede lograr de acuerdo con los requisitos del proceso.

Características clave

· Cámara de alto vacío: niveles de vacío de hasta 10⁻⁴-10 ° PA para entornos de recubrimiento ultra limpio.

· Tecnología de pulverización de magnetrón: eficiencia de deposición mejorada y adhesión de recubrimiento superior.

· Capacidad de múltiples objetivos: admite múltiples materiales para recubrimientos compuestos o en capas.

· Control preciso de procesos: interfaz PLC + HMI con monitoreo en tiempo real y recetas programables.

· Deposición de películas uniformes: distancia optimizada de la distancia y los sistemas de rotación.

Ventajas técnicas

· Produce recubrimientos con alta densidad, acabado de superficie lisa y excelente resistencia a la unión.

· Adecuado para metales, cerámica y recubrimientos dieléctricos.

· Capaz de deposición de gran área con un grosor uniforme.

· Calentamiento de sustrato reducido para materiales sensibles a la temperatura.

El sistema funciona bombardeando un material objetivo con iones en un plasma controlado, lo que hace que los átomos sean expulsados y depositados en la superficie de la pieza de trabajo. El entorno de alto vacío garantiza recubrimientos limpios y sin defectos con excelente uniformidad y repetibilidad, mientras que la tecnología de magnetrón mejora las tasas de deposición y la eficiencia energética.

Aplicaciones

· Recubrimientos ópticos: filtros antirreflectantes, espejos y de interferencia.

· Electrónica: capas conductoras, películas de semiconductores y recubrimientos protectores.

· Energía solar: capas de óxido conductivo transparente (TCO) para paneles solares.

· Acabados decorativos: recubrimientos de colores resistentes al desgaste y resistentes a la corrosión.

· Herramientas e ingeniería: recubrimientos duros para herramientas de corte, moldes y piezas de máquina.

El equipo de recubrimiento de vacío de esputulamiento magnetrón ofrece precisión, flexibilidad y alta eficiencia de producción, lo que la convierte en la opción preferida para los fabricantes que buscan soluciones de recubrimiento de película delgada confiables y escalables.